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AGN-MC30膜專用酸性清洗劑
BWA MC30是一種低pH的配方,特別設計專用于清除金屬氫氧化物、碳酸鈣和其它類似的附著在聚酰胺、聚砜和薄膜組分膜表面的垢。
AGN-MC11膜專用堿性清洗劑
BWA MC11是一種高pH的配方,特別設計專用于清除有機物,污泥和其它類似的附著在聚酰胺、聚砜和薄膜組分膜表面的微粒。這種高效能的清洗劑有如下特點:H10.O土0.5可調;在室溫下高效;不含表面活性劑,易沖洗;含洗滌劑、蝥合劑和pH緩沖劑。
BWA MC1 1適用于所有聚酰胺、聚砜和薄膜組分的膜。它適,用于從15度到膜生產商所推薦的高溫度。標準的稀釋比是25克BWA MC11溶于1升水中。